※ 引述《palindromes ()》之铭言：
: 中国实现国产DUV曝光机 可生产8奈米及以下芯片
1.支那说作出DUV已经很多次了, 到底那次是真的能用.
2.就算现在支那手持ASML光刻机也作不出台G水准的良率,
因为光一些日本作的耗材像光刻胶他们也搞不出来.
(话说材料科学这种半玄学的科学也只有日本人适合搞, 因为周期长且回报极不平均.)
3.支那离三星和英特尔还远的很, 光接近们就够呛.
台G现在根本还没把支那看到眼里 by 台G朋友
这种新闻就是去洗一些两岸低智的认支作战.