目前美中科技战，我觉得中国最难克服的是euv 曝光机，和日本的光刻胶。
尤其是euv 曝光机，我觉得中国如果没有用偷的，至少2028年以前绝对做不出来！
甚至很可能更久！
因为中国连一台euv 曝光机都没有，想仿制很难，中国之前又完全没有研究。
日本光刻胶还简单一点。
台湾制程方面很被中国挖角人才。
当然越多步骤被卡脖子，越少人敢明目张胆帮中国！
希望荷兰asml 能守住秘密！