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40 奈米以下全断供！中国成熟制程快守不住，为何日本是压垮关键？
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日本经济产业省宣布 7 月 23 日起将 23 种半导体制造设备列入出口管制措施，令中国
半导体业者相当紧张。其实比起美荷夹杀，日本限制半导体设备出口，才是冲击中国芯片
业发展的关键，很可能重创低阶芯片制造。
了解压垮关键前，必须先知道日本这次管制哪些设备出口。
日本出口管制有哪些设备？
日本列入出口管制的 23 个设备品类，包括 1 项热处理设备、1 项测试设备、4 项微影
曝光设备、3 项蚀刻设备、3 项清洗设备、11 项薄膜沉积设备。
4 项微影曝光设备包括 EUV 曝光薄膜设备、EUV 曝光的薄膜制造设备、EUV 曝光光阻剂
涂布显影设备（Coater Developer），及 193 奈米以上光源波长乘以 0.25 后数值除以
孔径值为 45 以下的光学曝光系统（包括 Nikon 浸润式 ArF 曝光设备）。
蚀刻设备包括硅锗（SiGe）／硅（Si）选择性比率为 100 以上的湿法蚀刻设备；此外还
有薄膜沉积设备，日本政府另外拉出 11 点解释哪些设备列入管制。
从产品应用面看，主要涉及极紫外光（EUV）相关产品的制造设备、3D 堆叠内存的蚀刻
设备，以及制造 10~14 奈米以下先进芯片设备。
日本设备商出口前，必须申请许可证
新限令没有明确将中国等特定国家和地区定为管制对象，除针对友好国家等 42 个国家和
地区外，其余需个别许可，所以出口中国仍受限。
日本经济产业大臣西村康稔强调，此举不是与美国协调的结果，也不是为了遏制中国。出
口管制适用于所有地区，非针对特定国家，这项政策是为了阻止先进技术用于军事目的。
美、荷出口限令有哪些？
美国出口限令分为三部分，为逻辑 IC 14 / 16 奈米以下制程”、内存制程 DRAM 18
奈米以下、NAND 快闪存储器 128 层以上。此外，任何美国人（含美国公民、持绿卡的永
久居民或依美国法律成立的法人实体）未经许可，不得协助中国“开发”或“生产”高阶
芯片，否则将失去美国公民身分。
荷兰新出口管制涉及最先进的浸入式“深紫外光微影”（DUV）设备，半导体设备龙头
ASML 预估新管制包括最先进沉积和浸润式微影（immersion lithography）设备，将为
最先进浸入式 DUV 系统申请出口许可证。
不过荷兰政府尚未界定“最先进”设备，也没有释出更新消息，目前只预定 7 月中公布
细则。ASML 可能是 TWINSCAN NXT：2000i 及之后推出的浸入式设备。
比起美国，日本限令对中国冲击更大
外媒《金融时报》（Financial Times）指出，美国、荷兰宣布限制后，中国业者本来还
有把握，认为不会影响中国制造能力，但日本出口限令一出，中国业者开始紧张，“比起
美国去年规定，日本出口管制更令中国不安”，因日本设备更常用于成熟制程。
智慧家电、汽车及电信设备都采用 28 奈米以上制程，日本目前规范如 Nikon 浸润式曝
光机等设备，都包含最基本 45 奈米芯片。日本只允许开放 193 奈米以上波长、乾式设
备，意味中国最多可能只能做到 40 奈米等级，若要发展 28 奈米成熟制程也有难度。
中国政府官员透露，ASML 预估只会限制先进设备制程，但日本会更广泛限制 Nikon 产品
出口，影响成熟制程供应链。
业界人士预估，随着封杀网成形，中国要取得 40 奈米以下设备可能更困难，即使日本没
完全限制，但申请许可是逐件审核，恐严重影响扩产计画。
中国本土设备商部分，上海微电子曝光设备制程仅发展到 90 奈米，虽然极力攻克 28 奈
米曝光机，但已被美国列入实体清单，研发能力受限。即使中国想突破重围，重新开发和
转换设备也没那么容易c
。
5.附注、心得、想法︰
※ 40字心得、备注 ※
中国半导体被日本掐住软肋
可能连成熟制程发展都受限
不知道接下来会不会跪舔日本
还好台湾不是被中国统治之下
不然赖以为生的半导体产业必然受到重创
但台湾还是有一群人,9.2 统派 想把台湾锁进中国
是不是该再想想呢?
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