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“还差得远”三星电子、SK海力士再利用率仅40%多……“循环用水”成半导体产业新竞
争力[芯片热议]
媒体来源:阿视亚经济The Asia Business Daily 韩媒
记者署名:Jang Bokyeong
随着先进制程扩大，用水量增加
三星电子与SK海力士也加快提升水资源再利用
台积电达88%……差距仍然较大
再利用率越高越好，但成本负担不小
半导体产业的水资源竞争已进入新阶段。随着扩大生产和向尖端工艺转换，用水量迅速增
加，比起单纯用多少水，能够将已使用的水再利用到何种程度，正成为核心竞争力。近日
，政府继湖南地区之后又提出忠清地区半导体超级项目投资计划，在稳定供水问题受到关
注的背景下，三星电子和SK海力士也在加快提升水资源再利用率。不过，业内认为，与全
球第一大晶圆代工企业台积电相比，差距依然明显。
“半导体工厂到底要‘喝’多少水？”
半导体产业是典型的“水密集型产业”。据英国市场调查机构IDTechEx称，去年全球半导
体生产投入的用水量已超过9亿吨。预计到2035年，这一数字将增至20亿吨以上，较当前
翻倍。
韩国半导体企业的用水量也呈持续增长趋势。根据三星电子近日发布的2026年可持续经营
报告，负责半导体业务的设备解决方案事业部去年全年取水量为1.7901亿吨。SK海力士按
韩国国内半导体工厂口径计算，去年用水量为8350万吨。
两家公司用水总量从2018年的1.9701亿吨，在2019年首次突破2亿吨，达到2.0033亿吨，
去年则创下2.6251亿吨的历史新高，较2018年增加约33%。生产设施扩建和引入先进微细
工艺被认为是主要原因。两家公司一年取用的水量，约为气候能源环境部此次在半导体超
级项目工业用水供应中认定占比最高的Dongbok水坝总蓄水量9950万吨的2.6倍。
在半导体制造过程中，去除杂质至极微量水平的超纯水被大量用于晶圆清洗等环节。这也
是半导体产业必须高度重视水管理的原因。超纯水是将微粒、细菌、矿物质等彻底去除后
的水，除构成水分子的氢和氧外几乎不含任何其他物质。晶圆切削后产生的碎屑，以及注
入半导体后残留的离子，也都要用超纯水清洗。此外，在去除制造过程中产生的有害物质
和气体的洗涤塔工艺中，同样需要用水。
水需求持续扩大……再利用成胜负手
气候能源环境部估算，西南地区半导体集群的用水需求为每天65万吨，即每年2.37亿吨。
缺口部分计划由Dongbok水坝、Juam水坝、Jangheung水坝、Boseonggang水坝和Naju水坝
等提供。尤其是仅Dongbok水坝就将供应每天30万吨，约占计划总量的一半。政府计划通
过现有5万吨余量以及加高坝体新增25万吨供水能力。
业内指出，为保障半导体集群稳定供水，首先应提高水资源再利用率。实际上，三星电子
为应对取水量增加，正通过将生产设施产生的废水再利用，或经内部处理设施净化后重新
使用等方式，扩大水资源循环利用。
根据SK海力士发布的可持续经营报告，其韩国国内工厂的水资源再利用量已从2023年的
4646万吨增至2024年的5203万吨，去年进一步增至6055万吨。水资源再利用率则从44%升
至47%。
三星电子方面，设备解决方案事业部韩国国内工厂的水资源再利用量也持续增长，2023年
为9265万吨，2024年为1.011亿吨，去年为1.0796亿吨。三星电子未单独公开再利用率。
不过，业内普遍认为，由于半导体晶圆厂的用水方式相近，三星电子的再利用率也可能在
40%左右。
为何水资源再利用率无法无限提高
不过，韩国企业的水资源再利用率与竞争对手台积电相比仍处于相对较低水平。
根据台积电去年发布的可持续经营报告，其水资源再利用率在2022年为85.7%，2023年为
90.3%，2024年为88.1%。其模式是通过高级净化系统将废水处理为超纯水，并在内部持续
循环使用。
正因如此，台积电才能在水资源极度匮乏的美国亚利桑那州菲尼克斯北部沙漠腹地建设超
大型半导体晶圆厂。
障碍依然在于成本和技术能力。将废水再处理并提纯至半导体工艺所需的超纯水标准，成
本高于普通工业用水处理。而且，如果在再利用过程中混入微量杂质，也可能导致先进工
艺良率下降。
一位业内人士解释称：“水资源再利用率是体现企业水管理能力的核心指标，因此企业不
会将使用过一次的超纯水直接排放，而是通过废水处理设施尽可能回收再利用，构建循环
系统。”不过他同时指出，“相关工艺复杂，成本也很高”。另一位相关人士也表示：“
将使用过的水再次净化并制成超纯水的过程，比处理普通工业用水成本更高，因此提高再
利用率时，成本负担也是重要考量因素。”
※本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。
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