1.媒体来源: 中时新闻网
2.记者署名: 吴美观
3.完整新闻标题: ASML强敌来了！陆首款国产DUV曝光机 中芯测试爆惊喜
4.完整新闻内文:
大陆芯片大厂中芯国际近期正在测试一台国产先进芯片生产设备，企图突破美国对半导体
产业的封锁，挑战西方在人工智能（AI）芯片领域的技术优势。
《金融时报》引述知情人士消息指出，中芯国际测试的设备为上海新创公司宇量升研发的
28奈米深紫外光（DUV）曝光机，并尝试透过“多重图案技术”（multi-patterning）制
造更高阶的7奈米芯片。初步试验结果虽然相对乐观，但目前仍不清楚该设备是否能真正
投入量产。
一般而言，新型DUV设备至少需要一年的调整期，才能达到稳定性与良率，符合量产条件
。据了解，此次测试的设备采用“浸没式技术”，与荷兰半导体设备巨头艾司摩尔（ASML
）的作法类似。
报导分析，如果中芯国际能让这款DUV曝光机顺利进入量产，不仅有助于大陆半导体业摆
脱对美国及西方技术的依赖，还可能提升先进AI芯片产能，减缓美国出口管制带来的冲击
。伯恩斯坦（Bernstein）分析师Lin Qingyuan直言，若这一步走得通，将成为大陆企业
迈向研发更先进设备的重要基础。
长期以来，中芯国际和其他大陆芯片制造商高度依赖艾司摩尔生产设备，但随着美国祭出
出口管制，并游说荷兰政府加入限制，大陆业者获取新设备的机会大幅缩减。尤其最先进
极紫外光（EUV）曝光机，已被明令禁止输往大陆，因此陆厂无法取得能生产最高阶芯片
的关键工具。
目前，EUV设备仍是全球制造尖端芯片的唯一途径，包括美国AI龙头辉达在内的先进芯片
皆仰赖该技术。随着白宫管制持续收紧，大陆不得不加快发展自主设备，以期在AI芯片竞
赛中维持一定竞争力。
5.完整新闻连结: https://reurl.cc/VWoRd5
6.备注:
中国国产DUV进阶到28奈米，目前给中芯国际试产状况似乎不差
若明年开始量产，那以后ASML的DUV就很少有厂商会买
据传中国厂商新凯来也在研制EUV中，估计三年内有机会完成进行试产
美股有在做空的可以考虑ASML看看..