Re: [新闻] 陆传EUV光刻技术获重大突破 前ASML科学

楼主: a40494 (田埂牧者)   2025-05-02 11:20:27
我就觉得很奇怪
光刻机这种东西
又不是什么像是小灰人、蜥蜴人那种反重力飞碟外星人的玩意儿
怎么会有台湾人认为只要荷兰人不卖,台湾就能永远躺着赢?
为什么有些台湾人总是觉得“硅盾”、“光刻机封锁”就足够把敌人压在地?
尤其又是有12亿人口与资源自足的大国
一样的东西,都是地球人生产出来的
荷兰人不卖中国光刻机,他就准备一辈子被台湾在脚下?
仇中仔仇到连思考都不好用的某群人怎么会有这种死于安乐的逻辑
我实在不懂
※ 引述《noposo (尼波)》之铭言:
: 备注请放最后面 违者新闻文章删除
: 1.媒体来源:
: ETtoday
: 2.记者署名:
: 魏有德
: 3.完整新闻标题:
: 陆传EUV光刻技术获重大突破 前ASML科学家林楠主导
: 4.完整新闻内文:
: https://cdn2.ettoday.net/images/8198/8198054.jpg
: 大陆中科院上海光学精密机械研究所近日传出前ASML首席科学家林楠率领研究团队,绕

: 二氧化碳激光(雷射光,下同),使用固体激光器技术,成功开发出LPP-EUV光源,已

: 国际领先水准,对大陆国产芯片(芯片,下同)及自主研发EUV光刻机具重大意义和突

: 。
: 林楠团队的研究成果发表于《中国激光》期刊杂志第6期(2025年3月下),该团队研究

: 员估计,光源实验平台的理论最大转换效率可能接近6%,团队正计划增加进一步的研究

: 未来有望进一步实现国产EUV光刻技术。
: 公开资讯显示,EUV光刻机中最核心的分系统是激光等离子体(LPP)EUV光源,其中,

: 氧化碳激光器激发的Sn等离子体 CE大于5%,是ASML光刻机的驱动光源,这类光源技术

: 美国Cymer制造,属于全球垄断地位。
: 在光刻机关键技术“卡脖子”的情况下,林楠团队考虑使用固体脉冲激光器代替二氧化

: 激光作为驱动光源,但能量效率仍需进一步提升。现阶段研究成果显示,林楠团队1um

: 体激光的CE最高可达3.42%,超过荷兰和瑞士研究团队的水平,虽仍未超过4%,但已达

: 商用光源5.5%转化效率的一半。
: 至于该研究团队的领衔人物林楠拥有众多身份,他是大陆中科院上海光机所研究员、博

: ,大陆国家海外高层次人才,超强激光科学与技术全国重点实验室副主任,精密光学工

: 部技术总师,中国仪器仪表学会集成电路分会委员,中国光学工程学会微纳专委会委员

: 曾任荷兰ASML公司研发科学家、研发部光源技术负责人。
: 林楠主攻机体电路制造光刻光源以及芯片量检测光源研发与工程应用研究,师从2023诺

: 尔物理学奖得主“Anne l'Huillier”。
: 截止目前为止,林楠申请及授权美、日、韩等国国际专利110余项,多项专利已完成产

: 转化搭载在最新型光刻机及量检测设备中。
: 5.完整新闻连结 (或短网址)不可用YAHOO、LINE、MSN等转载媒体:
: https://www.ettoday.net/news/20250501/2952975.htm
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