※ 引述《s213092921 (麦靠贝)》之铭言：
: http://i.imgur.com/iAZFy2w.jpg
: 9月11日中国工信部官方宣导推广中国企业使用国产DUV
: 注意是国产DUV且专门生产14奈米的成熟制程光刻机
工信部公布的那个曝光机，从他参数来看就知道是成熟制程
还是乾式曝光机
工信部的规格是这样
https://i.imgur.com/gRVsr0U.png
2.1.6的规格比较好，里面的套刻是指overlay，不是能做到什么等级的制程
跟ASML的1460K对一下规格就知道
https://www.asml.com/en/products/duv-lithography-systems/twinscan-xt1460k
The TWINSCAN XT:1460K 193 nm step-and-scan system is a high-productivity,
dual-stage ArF lithography tool designed for volume 300 mm wafer production
at 65 nm resolution. The TWINSCAN XT:1460K contains a variable 0.93 NA 193 nm
projection lens with advanced lens manipulators.
improvements, the TWINSCAN XT:1460K can achieve a dedicated chuck overlay of
<= 3.5 nm and a matched machine overlay of <= 5 nm with the TOP XT:1460K
package installed.
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工信部那台规格大概就是比1460k还要差一点，1460K是2005年的设备了
这设备明显就是以成熟制程为主要目标
制造商有人说是中国电子科技集团，这家去年还今年的确有发表曝光机
今年大陆的大基金投资方向己经转向要大量建厂了，工信部公布这个
八成是要盖成熟制程产线的多买国产设备
不过有一个地方要注意，大陆的国产DUV很有可能真的做出来了
中国内存厂 2024 年投资年增逾 90%，要突破 Chip 4 联盟限制
https://pse.is/6fb848
长江存储也将投入 30 亿美元投资扩产，比前一年增加一倍以上。
长江存储预计将以武汉二厂为中心进行扩产，确保 NAND Flash 快闪记忆
体的产能达到每月 13 万片的规模
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长存被美国制裁后原本的二厂都停摆了，现在投30亿美元扩产，除了买国产设备
没有其他可能
NAND相较逻辑芯片比较不需要微缩下去，不用太依赖先进制程
(详细请看 https://www.synnex-grp.com/component/tech_paper_42.html)
只有蚀刻机比较重要
去年长存己经用国产蚀刻机生产出232层NAND了
https://moptt.tw/p/Gossiping.M.1696914656.A.662
所以蚀刻机己经不是问题了，那就只有曝光机和其他设备了
现在投资扩产很有可能是全部都解决了