※ 引述《k0122k (厚嫩)》之铭言
: 为什么支八毛可以乱说不打草稿，起码你也抄一下嘛
: 如果不考虑ROI,空间, 就光是透镜组成就不知道要多大了，有可能超过一间透天别墅的大
: 小
: 接下来 这是要多强大的功率才能把pattern 穿过光罩投射到芯片上
: EUV最大两个挑战就是 透镜比(NA)吧 忘了
: 以及光源强度
: 你国可以土法炼钢？？？
: 真的当EUV是荷兰一个国家研发出来而已吗？
: 里面每一个部件都是一家一家公司堆叠出来的分散在各个国家，
: 干 支八毛真的不要在北烂惹
: 回墙内高潮辣
你没看明白，所以我再解释一下。
1、清华的这个方案，因为使用 同步辐射光源+电磁场偏转，所以直接能得到各种波长的高
功率光源，不需要asml技术的大量透镜组合。
所以你说的别墅大小的镜片，本来就是不存在的。
另外，因为减少了镜片折射之间的能量损耗，所以功率本身就在asml几十倍的同步辐射光源
，理论上能同时对接几十个光刻工厂，从1nm到100nm，看每个工厂需求，甚至还可以有功率
分光。
清华方案恰恰是为了规避asml技术的光源和透镜组合，降级技术难度，才会选择大型化、设
备工厂化、同步辐射光源方案。
2、中国现在euv是好几个技术方案同时进行中。
清华这个只不过是脑洞最大的，所以被自媒体炒作而已。当然，论文发了，实际建设的验证
光源半年前也开始建设了。但工程化确实应该不会很快。
而长春、上海都各自在牵头另外不同的方案。
比如，asml方案，长春牵头。从公开的各种消息看，光源、透镜、光刻胶、双机位工作台都
已经有不同的单位研究出来了，但最终整机状态，还不知道。
所以，中国并不是只有清华那个脑洞方案，反而asml的方案才是中国现在最可能最快研制出
来的。
3、这说的是euv，至于duv，应该很快了。当然，生产出来只是解决有无的问题，还需要长
时间不断迭代才可能真正赶上asml。
但根据美国之前的做法，只要中国研制出来，就会解除对应的技术封锁，然后低价倾销。所
以，只要duv做出来，应该就会各种豁免延期。
供参考。