自媒体夸大了，但也不是完全没有那麽回事。
分享下。
1、中国的光刻机研制，现在是duv、euv同时在弄。duv肯定是传统路线，应该差不多了。而
euv是不同的3、4种技术路线在同时弄，每条路线都有不同的科研院所负责。
中科院长春光研所负责asml的那种euv。
2、光学、精细化工之类的，其实中国自身并不差。主要以前没有不计成本也要弄出来的动
机，弄出来了也没人会用。但现在因为美国制裁，中国的半导体产业的市场完全被美国主动
让出来了，那造出来自然就有意义，能够迭代。
现在看，光源、光刻胶之类的都已经有中国企业弄出来了，还在最后的总装过程中。
3、至于这个清华的版本，是脑洞最大的一个，现在已经进行实际预研建设了。
简单说就是放弃小型化、集约化，从而换取技术上难度的下降。
asml的光刻机，在一个集装箱中，有光源、有各种光学镜片、有各种防气体污染的管路。之
所以这个技术路线，一是因为asml的技术路径依赖，二是因为光刻机是商品，必须满足远洋
运输、后期调试的需求。
清华的版本，是儅基础设施弄，光源不在内置，而是如发电厂集中供电、中央锅炉集中供热
水一样，用同步辐射光源做发光厰集中供应光。
因为同步辐射光源的特性，功率可以做到asml的euv的几十倍，而且是广谱光。通过电磁场
的不断偏转，不同波长的光会从不同的接口被筛选出来，也就是理论上从1nm到100nm的光源
同时供应。
根据功率、光源波长等，一个光源厰能同时供应几十个光刻厰，效率和电能利用率会很高，
哪怕单个厰的良率没那麽高，成本也能平摊下来。
另外因为没有空间限制，可以省掉各种复杂的光路和精度极高的镜片组，直接来上千W的8nm
波长。
EUV的三大难点：光源、物镜和工作台，直接跳过前俩，只要保证双工作台的精度就行。
以前其实就有这种路线，但因为占地大、成本高、同时用电大三个问题，并不是asml这种企
业的选择项。
但对于中国，这些缺点并不是问题，只要能造出来就可以。
占地大，中国就是地多，也不需要儅商品运输，而且辐射光源有其他用处，可以一鱼多吃。
成本高，对于现在一台几台几亿美金来说，其实也不高了，而且可以同时大量起光刻厰，
中国占半导体产业50%的需求量，只要能造出来就有市场。
用电大，中国自己发电就占全世界的30%，而且内蒙、贵州这些地方电多到用不出去。综合
去算几十个光刻厰同时运作，其实能耗和asml的光刻机差不多了。
只不过，现在是理论上很完美，也是中国诸多技术中的一种。但实际工程化却不一定能很快
弄出来。现在最快的的还是传统路线。
但asml总裁之前说中国有很多聪明人，能想出不一样的路线，也是意有所指。