如果没有相关知识只看人家发的稿就会这样
有唸过一点光学的都很容易明白这个就是乱唬烂
第一
雷射功率
光的强度取决粒子多寡，精确到3nm意义不只是光径缩小到3nm，也要有足够的功率去刻芯片。
第二
精确度
雷射打的位置是否偏移，稳定度等，这都是需要极其精密的设计与零件品质。
这方面中国……
第三
光散射
读过基本光学都知道光通过狭缝会绕射
所以看到最后一段就会觉得这在供啥小
结论：文组洗洗睡啦
※ 引述《esolve (nobbb)》之铭言：
: 中国不是做光刻机
: 中国是做光刻工厂
: 做光刻机确实很难
: 因为荷兰asml做光刻机有积累有专利，是多个国家高精尖技术的汇聚
: 但是荷兰做的光刻机是为了卖
: 所以要做的小，做成产品
: 但是中国做光刻工厂不是为了卖，而是为了造芯片
: 所以不需要做小，不需要那么多高精尖配件
: 这就是另辟蹊径
: 比如说
: asml光刻需要的光源要做到精确的3nm
: 那确实很难
: 但是中国光刻工厂就不做精确光源
: 而是做精确的筛子
: 3nm 7nm 14nm的筛子
: 用同步辐射光源打出各种光
: 刻3nm芯片的部分放上3nm筛子
: 刻7nm芯片的部分放7nm筛子
: 这样一次发射，同时刻不同芯片