Re: [新闻] 独家》中芯7奈米已出货,还很像台积电

楼主: zeldon (蓝色眼睛)   2022-07-25 16:57:50
其实这也不是什么新闻了啦
对岸从军工到汽车到半导体等
哪样不是抄袭出家的
再来了…
以前是大家在国际上假掰
一团合气才再让你告来告去
现在国际局势撕破脸,乌克兰也被打哭到没人帮,大家都看戏在后面喊包子烧
人家就算摆明真的抄袭,你也是告输人家的,妳没看日本跟中国撕破脸时,汽车业告的全
都输,还摸鼻子打算撤资
更不用提北方俄罗斯榜样就立在那边, 人家狠点学它南京厂上海厂全部没收,狠点连人
都给妳扣下来,到时还不是只能摸鼻子认赔结束
别忘了,俄罗斯一堆联合国成员的外资,被没收时,吭都不敢吭一声,台湾可是连联合国
的成员都不是,到时谁管你哭爹喊娘的
反正对岸摆明,你研发创新你的,我还是能抄就抄,不能抄还是抄
搞不好还可以学学某官员理直说
我才是原创的
反正自己的官员都不要脸成这样了
还想期望对面不讲武德?
笑死
※ 引述《JARED80527 (Jared_fat_baby)》之铭言:
: 备注请放最后面 违者新闻文章删除
: 1.媒体来源:
: 风传媒
: 2.记者署名:
: 周康玉
: 3.完整新闻标题:
: 独家》中芯7奈米已出货,还很像台积电产品?护国神山法务部门启动调查
: 4.完整新闻内文:
: 根据研调机构Tech Insights在日前(7/19)发布的拆解报告指出,MinerVa Semicondu
ct
: 新品矿机的SoC,采用中芯国际的7奈米制程,新机并已全面上市。
: 据该报告指出,最初的图像和台积电相似,原文如下:
: Initial images suggest similarities with TSMC's 7nm process technology.
: 此文一出,也让市场有一股风向指涉中芯“抄袭”台积电。对此,台积电并未表示任何

: ,然而根据匿名消息指出,台积电法务部门已经开始对此事进行了解,同时,也已针对

: 告进一步分析。
: 市场人士指出,Tech Insights是历史悠久、具公信力的研调公司,就连台积电也固定
购?
: 该公司报告,作为掌握市场脉动的来源之一。
: 另一引起市场讨论的是,台积电是否可能因此事件再次提告中芯?业内人士观察,提告

: 还需要更多具体讯息,但可以确定的是,台积电势必要针对此事内部做review(检视)

: 何7奈米芯片的相关资料泄漏出去?
: 台积电在2017年中就已试产7奈米,2018年第二季量产,在市面上不难取得7奈米的样品

: 管如此,业内人士分析,关键还是要看该报告所指的7奈米芯片结构,是否跟台积电的
结?
: 及材料一模一样。业内人士认为,不管中芯多么用力copy(抄袭)台积电,也一定会有

: 不一样,因为两家公司机台参数必然不会完全相同。
: 然而,此报告尚未全文曝光,目前市场上仅流传10页的简要版本;此外,报告内容中的

: 仅有俯瞰图、并无截面图,资深产业分析师指出,后者才能有进一步的芯片架构和材料

: ,也才能确认中芯国际的产品究竟是否和台积电7奈米芯片一模一样。
: 台积电曾在2002年及2006年分别提告中芯抄袭,最终于2009年达成和解,中芯的条件是

: 2亿美元、及让与8%股权,换言之,台积电大获全胜。业内人士认为,虽然台积电提告

: 曾获得胜诉,但是否有此必要再次打法律战?根据专利律师指出,专利诉讼旷日费时、

: 十分庞大,若非影响到公司最仰赖的产品线,大多会是以战逼和、寻求和解收场。
: 没有EUV,中芯也能做得出7奈米?
: 另一市场关注焦点着墨7奈米制造的可能性,从半导体制造技术层面来看,在不需要EUV

: 机下,亦可生产7奈米,换言之,中芯可制造7奈米的能力,倒是可以不用怀疑。
: 报告指出,在美国禁令下,中芯国际在先进制程设备使用受到限制;三星和台积电的7
制?
: 节点本就不需要使用EUV曝光,但必须用更高的成本,和更为复杂的设计规则来交换。
: 报告原文如下:
: SMIC will not likely have that evolution option in the near-to medium term a
nd
: ill continue to evolve the 7nm node without that capability, at the cost of
in
: easing complexity (and resulting yield issues).
: 上述内容指涉一个可能事实,在中芯被禁用艾司摩尔EUV曝光机前提之下,仍旧成功量
产7
: 米,但中芯制程复杂性和最关键的良率,仍然不明。也因此,市场揣测,中芯可能方法

: 用较为落后的DUV(深紫外光)曝光机量产7奈米。
: 简单来说,先进制程的EUV(Extreme Ultraviolet Lithography,极紫外光)是一次性

: ,而DUV(Deep Ultraviolet Lithography,深紫外光)只能反复曝光,较为耗费人力
,?
: 程也会因此更为冗长。
: 也有一说,中芯透过逆向工程(reverse engineering)来拆解和抄袭台积电7奈米芯片

: 内人士指出,逆向工程是科技业界很例行的工作,这和侵权的行为相去甚远。
: 业内人士表示,无论是否提告侵权,可以确定的是,由于报告中提及该芯片结构和台积

: 奈米芯片相似,台积电不可能对此案置之不理。
: 责任编辑/周岐原
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