光刻机就搞死你了。
美国不让荷兰ASML出口光刻机给中芯国际，中芯国际的工艺即便能追上台积电，也只能完
蛋。
除了光刻机，还有半导体的加工材料，高端的都掌握在日本手里，美国不让日本出口给中
芯国际，中芯国际也没有办法。
试想如果美国禁止ASML出口光刻机给台积电，禁止日本出口高精密加工材料给台积电，台
积电的制造工艺再好，是不是也要完蛋？
所以现在大陆为了突破这个半导体的限制，只能全产业链发展。而台湾只发展制造工艺就
行了，光刻机直接从荷兰ASML进口，半导体材料从日本进口，不必担心制裁。
关于大陆的光刻机，上海微电子装备(集团)股份有限公司预计将在2021-2022年交付第一
台28nm工艺的国产沈浸式光刻机。
而对于光刻机的各个子系统：
清华大学和北京华卓精科负责双工件台系统，进度比较快，2019年底刚通过了02专项的
CDR里程碑评审，研发和试产基地也完成了建设，是世界第二个掌握该项技术的（第一个
为ASML的Twinscan技术）。
浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责沈浸式光刻机的浸液系
统，目前进度还可以，算是全世界第三家（第一ASML，第二为Nikon）。
中科院光电研究院负责准分子激光光源系统，由北京科益虹源负责产业转化，据之前的报
道，国产40W 4kHz ArF光源已经交付（准分子激光光源此前只有两家公司提供，分别为美
国Cymer公司和日本Gigaphoton公司，前者已经被ASML全资收购）。
中科院长春光机所（现北京国望光学）和上海光机所负责光学部分，其中长春负责物镜系
统，上海负责照明系统，此前NA 0.75光刻机曝光光学系统已经通过02专项验收，满足
90nm级ArF干式光刻机的需要，但主流的ArF浸没式光刻机一般需要60W 6kHz等级的光源，
似乎情况不容乐观。
※ 引述《gsmzxcvbnm (最爱邦之葵)》之铭言：
: 如题，
: 为啥一样是政府扶植，三星半导体科技几乎都是顶尖，
: 中国扶植科技业就整天烂尾欠款技术落后人，朝鲜人是不是比一般汉人聪明？
: 有没有八卦？