对这两间公司都算是有小小认识
分享一下
GG个人觉得是各个module合作起来
大家都知道芯片制程要经过很多道程序
像是黄光 蚀刻 气象沉积那些
ASML的话就是曝光机的霸主
以技术来讲应该海放nikon跟canon
193nm以下无人能及
当初immersion的导入已经算是个里程碑
用水来增加NA降低resolution真的很厉害
没想到EUV直接把波长降到13.5
开外挂
不过EUV本身机台也是不好修
以前修DUV时觉得小小台的还好
第一次看到EUV的时候真的傻了 根本巨兽
因为抽真空所以又多了很多pump那些
产光是用co2 laser打锡所以又多一个source module
各种复杂 当机很崩溃
保养也很崩溃XD
如果要比的话
gg当然是晶圆产业霸主没错
asml就是曝光机的技术领导
大概是这样
两间也都是互利共生的关系
而且目前EUV 内存产业也还没导入
以台湾来说gg真的就是我们最大的客户了