曝光显影与蚀刻
光阻液为照光(UV)会胶结硬化的化学胶
让照到光的的部分成为下层的保护
透过清洗把未曝光的部分去除达到差异化
◥████████████◤
◥██████████◤ 曝光光源
◥████████◤
█▉▉█▊▋▌▌██ 光罩
↓↓ ↓↓↓↓
↓↓ ↓↓↓↓
█▉▉█▉▊▋▋██ 光阻液
██████████ 晶圆基板
██████████
fig 1. 曝光示意图
清洗能把未曝光的部分去除
█▉▉█▉▊▋▋██
██████████ 晶圆
██████████
fig 2. 光阻成膜
再进行蚀刻
█▉▉█▉▊▋▋██
█▉▉█▉▊▋▋██
██████████ 晶圆
fig 3. 蚀刻后
去光阻
█▉▉█▉▊▋▋██
██████████ 晶圆
fig 4. 线路完成图
印刷电路板和半导体晶圆差异
尺度 奈米 V.S 毫米至微米
还有立体堆叠的方法 层积 V.S. 压合
知道半导体制程(上图并无参杂与沉积的步骤仅以空白晶圆代表)之后
可以发现到台湾的设备厂接触都大都是周边次要制程
如清洗 蚀刻(周边) 搬运
核心部分
如 曝光 沉积(PVD CVD) 大都是外商的天下
检查设备 (汉微科还算但这股价贵死人 而业界老大KLA也不是吃素的)
电子束很精密
但难伺候的特性你要怎提升turnover呢?
研究可以龟
但生产就是比速度
好好努力吧