GlobalFoundries 7nm进展顺利：极紫外光刻良率已达65％
http://news.mydrivers.com/1/553/553233.htm
AMD拆分出去的晶圆代工业务GlobalFoundries(GF)曾经长期各种不靠谱，新制程要嘛跳票
，要嘛良率和产能跟不上，多次迫使AMD更改产品规划。 有这么个“女朋友”，AMD也是
苦不堪言。
但是这两年随着自身实力的增强，以及外部合作的加深，GF是越来越靠谱了，14nm制程就
展现了不俗的实力，推动AMD Ryzen处理器、Vega显卡表现均相当出色。
AMD也是对GF信心爆棚，直接与其签订多年合作协议，联合跨过10nm，直接奔向7nm。
GF首席技术官Gary Patton近日在上海举行的一次技术会议上披露， GF EUV极紫外光刻技
术的良品率已经提高到65％，公司将按计划推进EUV的商用和普及。
EUV极紫外光刻采用波长为10-14nm的极紫外光(软X射线)作为光源进行芯片光刻，是推动
半导体制程继续前进到10nm之下的关键技术，Intel、三星、台积电、GF多年来都在努力
研发，只是技术难度实在太大，商用也是一再推迟。
GF也承认， EUV确实面临很多挑战，必须努力克服才能投入规模化量产，其目标是将良率
提高到95％。
Patton确认，GF将在7nm上首次应用EUV技术，目前已经在与AMD合作攻关 ，但量产时间未
披露。
AMD第二代Zen CPU架构、下一代Navi GPU架构，都将采用GF 7nm。
今年初，GF曾经推出了7LP(Leading-Performance) FinFET制程 ，相比于14nm FinFET号
称性能可提升超过40％，集成密度翻一番。
GF还在推进12LP FinFET制程 ，也就是现有14nm的升级版本，将在2018年第一季度投产，
AMD Ryzen第二代处理器就有望使用它。