据了解，目前半导体制程的主流光源是氩氟雷射，波长为 193 纳米，当晶体管尺度已微
缩到几十纳米时，就像用一支粗毛笔写蝇头小字一般，生产起来有点力不从心。而极紫外
光的波长仅有 13.5 纳米，这也使得 EUV光刻机成为了攻克7nm、5nm甚至更高制程工艺的
关键。
而EUV光刻机除了售价高昂之外，其耗电也是非常之惊人！
“极紫外光物理特性与一般常见的紫外光差异极大。这种光非常容易被吸收，连空气都不
透光，所以整个生产环境必须抽成真空；同时，也无法以玻璃透镜折射，必须以硅与钼制
成的特殊镀膜反射镜，来修正光的前进方向，而且每一次反射仍会损失 3 成能量，但一
台 EUV 机台得经过十几面反射镜，将光从光源一路导到晶圆，最后大概只能剩下不到
2% 的光线。”这也是 EUV 机台如此耗电的主因之一。
另外需要指出的是，如此大的耗电量也不可避免的带来了很大的发热量，因此需要部署相
应的冷却系统，而这也将非常的耗电。
http://cj.sina.com.cn/article/detail/5772303575/363681?column=tech&ch=5
‧一套EUV光刻系统包含10万个零件、3千条电线、4万个螺栓与2公里长的软管
‧一套EUV光刻系统重约18万公斤
‧一套EUV光刻系统需借由40个货柜、20台卡车以及3架货机才能完成运送
‧一套EUV光刻系统包含一个重达7,600公斤的大型真空室 (vacuum chamber)
http://www.semi.org.cn/magazine/article.asp?id=2201
所以在台湾要有光刻机 应该是非常难的事吧~
电力吃紧 然后台湾又特别热 不像韩国一样 天气冷好散热
之前台媒报导台GG一口气买了五台 不知是真是假??
一天三万度一年就是一千万度 五台就是五千万度