1.媒体来源:大纪元新闻网
2.记者署名:夏雨
3.完整新闻标题:ASML光刻机再受出口管制 挫中共芯片野心
4.完整新闻内文:
更新 2023-10-19 3:49 PM
图:https://reurl.cc/OjmVN7
总部位于荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）的ASML公司制造最先进的光刻机。(Joyce
van Belkom/AFP via Getty Images)
【大纪元2023年10月19日讯】（大纪元记者夏雨综合报导）周二（10月17日），
美国政府更新了人工智能芯片的出口管制规定，意在限制向共产中国等国家出口高端人
工智能芯片。周三，荷兰半导体设备制造商ASML Holding NV（阿斯麦）首席执行官表
示，该公司又一款产品受到美国新出口规定的限制。
在该公司第三季度业绩公布后的新闻发布会上，首席执行官彼得‧温尼克（Peter
Wennink）表示，今年推出的荷兰出口许可规则未涵盖的另一款ASML产品，在周二宣
布的美国新出口规则下受到限制。
该产品是ASML的1980Di DUV光刻机（深紫外光刻系统），可用于帮助制造相对先
进的计算机芯片以及中端和较旧的芯片。
“原则上，1980系列将受到出口管制限制，但只有当……（它们）用于先进半导
体制造时。”温尼克说。
ASML是全球最大的光刻机供应商，光刻机是芯片制造的关键设备，将芯片设计印
刷在晶圆上。这些机器对于制造从处理器到存储芯片的一切产品至关重要。台积电、三
星和英特尔等芯片制造商使用这些设备来帮助创建芯片电路。中国是该公司第三大市
场，仅次于台湾和韩国。
荷兰政府自2019年起禁止向中国运送ASML最尖端的芯片生产工具极紫外系统（EUV
）。今年6月，荷兰政府公布了出口管制规则，禁止ASML向中国出口某些类型的深紫外
光刻系统（DUV）。
DUV光刻机不是ASML最先进的工具，但它们仍然可以帮助中共提高其芯片制造技术
。例如，中芯国际利用基于DUV光刻的7纳米技术，帮助华为恢复了部分5G移动芯片制
造能力。DUV也是一种“双重用途”技术，意味着它可以用于商业和军事目的。
分析师和行业高管表示，美国最新规定可能会影响ASML 1980Di DUV光刻机对中国
的出货量。这些广泛使用的机器通常用于生产28纳米芯片，适用于各种微控制器、图
像传感器、显示驱动器等。其它DUV光刻系统，如2000i和更先进的工具，已经属于荷
兰对中国出口管制的范围，该管制于9月份生效。
目前，没有一家中国公司有能力制造1980Di技术水平的机器。
野村证券分析师滕?安（Donnie Teng）在谈到最新规定时对《日经新闻》表示：
“这肯定会影响中国成熟的28纳米芯片扩张计划，并为中国半导体行业带来更多不确定
性。”
日本、荷兰和美国主导了全球芯片生产工具的供应。日本尼康和ASML是光刻机的
主要供应商。
ASML先进的沉浸式DUV系统被全球芯片制造商广泛采用，包括中国芯片制造巨头中
芯国际、存储芯片制造商长江存储和中国DRAM存储芯片制造大厂长鑫存储。
责任编辑：叶紫微#
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