※ 引述 《a1e (我上了贼船了囧)》 之铭言：
: 多个光源束反射搞不定，直接加一个粒子加速器搞一个大出力射束
: 加速器周长100~150公尺，输出EUV功率>1KW (ASML目前的EUV曝光机输出功率是200~350w)
: 　
: 这看起来比较可行，缺点就是超大超吃电，不过做出来应该是自用为主
: 不太可能外销，这问题好像也不是什么大问题
: 　
这件事我前几天讲过，
在美国2018年前后开始游说荷兰不卖大陆
Euv光刻机后，大陆就开始加速EUV研发了，
原本只有一家研究所在研究EUV，之后大陆
就组织了数个研究所/大学/企业研发EUV，
而且是所有理论可行的技术方案同时研发，
为规避专利墙。
目前做出原理样机的就至少三种，据说工程
样机也有做出来的。