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1.媒体来源:
风传媒
2.记者署名:
周康玉
3.完整新闻标题:
独家》中芯7奈米已出货，还很像台积电产品？护国神山法务部门启动调查
4.完整新闻内文:
根据研调机构Tech Insights在日前（7/19）发布的拆解报告指出，MinerVa Semiconductor
新品矿机的SoC，采用中芯国际的7奈米制程，新机并已全面上市。
据该报告指出，最初的图像和台积电相似，原文如下：
Initial images suggest similarities with TSMC's 7nm process technology.
此文一出，也让市场有一股风向指涉中芯“抄袭”台积电。对此，台积电并未表示任何评论
，然而根据匿名消息指出，台积电法务部门已经开始对此事进行了解，同时，也已针对此报
告进一步分析。
市场人士指出，Tech Insights是历史悠久、具公信力的研调公司，就连台积电也固定购买
该公司报告，作为掌握市场脉动的来源之一。
另一引起市场讨论的是，台积电是否可能因此事件再次提告中芯？业内人士观察，提告与否
还需要更多具体讯息，但可以确定的是，台积电势必要针对此事内部做review（检视），为
何7奈米芯片的相关资料泄漏出去？
台积电在2017年中就已试产7奈米，2018年第二季量产，在市面上不难取得7奈米的样品；尽
管如此，业内人士分析，关键还是要看该报告所指的7奈米芯片结构，是否跟台积电的结构
及材料一模一样。业内人士认为，不管中芯多么用力copy（抄袭）台积电，也一定会有地方
不一样，因为两家公司机台参数必然不会完全相同。
然而，此报告尚未全文曝光，目前市场上仅流传10页的简要版本；此外，报告内容中的芯片
仅有俯瞰图、并无截面图，资深产业分析师指出，后者才能有进一步的芯片架构和材料分析
，也才能确认中芯国际的产品究竟是否和台积电7奈米芯片一模一样。
台积电曾在2002年及2006年分别提告中芯抄袭，最终于2009年达成和解，中芯的条件是赔偿
2亿美元、及让与8％股权，换言之，台积电大获全胜。业内人士认为，虽然台积电提告中芯
曾获得胜诉，但是否有此必要再次打法律战？根据专利律师指出，专利诉讼旷日费时、开销
十分庞大，若非影响到公司最仰赖的产品线，大多会是以战逼和、寻求和解收场。
没有EUV，中芯也能做得出7奈米？
另一市场关注焦点着墨7奈米制造的可能性，从半导体制造技术层面来看，在不需要EUV曝光
机下，亦可生产7奈米，换言之，中芯可制造7奈米的能力，倒是可以不用怀疑。
报告指出，在美国禁令下，中芯国际在先进制程设备使用受到限制；三星和台积电的7制程
节点本就不需要使用EUV曝光，但必须用更高的成本，和更为复杂的设计规则来交换。
报告原文如下：
SMIC will not likely have that evolution option in the near-to medium term and w
ill continue to evolve the 7nm node without that capability, at the cost of incr
easing complexity (and resulting yield issues).
上述内容指涉一个可能事实，在中芯被禁用艾司摩尔EUV曝光机前提之下，仍旧成功量产7奈
米，但中芯制程复杂性和最关键的良率，仍然不明。也因此，市场揣测，中芯可能方法是使
用较为落后的DUV（深紫外光）曝光机量产7奈米。
简单来说，先进制程的EUV（Extreme Ultraviolet Lithography，极紫外光）是一次性曝光
，而DUV（Deep Ultraviolet Lithography，深紫外光）只能反复曝光，较为耗费人力，制
程也会因此更为冗长。
也有一说，中芯透过逆向工程（reverse engineering）来拆解和抄袭台积电7奈米芯片。业
内人士指出，逆向工程是科技业界很例行的工作，这和侵权的行为相去甚远。
业内人士表示，无论是否提告侵权，可以确定的是，由于报告中提及该芯片结构和台积电7
奈米芯片相似，台积电不可能对此案置之不理。
责任编辑/周岐原
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